Научно-исследовательский институт полупроводникового машиностроения (с 1993 г. открытое акционерное общество «НИИПМ») создан на основании постановления Совета Министров СССР в 1961 году со специализацией в области научно-исследовательских и опытно-конструкторских работ по созданию комплексно-механизированных линий и отдельных образцов специального технологического, контрольно-измерительного и испытательного оборудования для производства полупроводниковых приборов и интегральных схем. За более чем 45-летнюю историю деятельности сформировалась специализация института, сегодня это: - оборудование для фотолитографических процессов на полупроводниковых, стеклянных (фотошаблоны) и керамических подложках диаметром до 200 мм под проектные нормы 0,35-0,5 мкм и менее.
